Chemical Vapour Deposition (CVD)

Vapour Deposition is de Engelse term voor oppervlaktebehandeling door middel van damp. Deze damp kan geproduceerd worden door chemische reacties (CVD) of fysieke reacties (PVD). Chemische reacties vinden op hoge temperaturen plaats (vanaf 800 °C). Fysieke reacties ontstaan uit een plasma, wat betekent dat door middel van deze reacties op zeer lage temperaturen (beginnend bij kamertemperatuur) lagen toegevoegd kunnen worden. PVD kan ook worden toegepast op alle solide materialen die u kan bedenken, zoals metalen, keramiek, glas en plastic. Deze technieken zorgen ervoor dat er combinaties met unieke eigenschappen ontstaan.

Chemical Vapour Deposition (CVD)

De unieke eigenschappen van het CVD proces van Hauck Heat Treatment Nederland resulteren in een proces met een zeer hoge penetratiegraad zodat over het gehele blootgestelde oppervlak een laag gecreerd wordt. Zelfs in de kleinste, haarfijne scheurtjes. Evenals bij ondersnijdingen en meer complexe geometrische vormen zoals metaalschuimen enzovoorts. Het CVD proces wordt in het algemeen gebruikt om verbeterde slijtvastheid, corrosiebestendigheid of verbeterde wrijvingseigenschappen aan een component toe te voegen. CVD coatings kunnen ook gebruikt worden voor toepassingen op hoge temperatuur of voor anti-hechtende eigenschappen. Alle materialen die de voor het proces benodigde temperatuur kunnen weerstaan kunnen gebruikt worden. Denk hier bijvoorbeeld aan verschillende soorten staal, glas en zelfs grafiet.

Hauck Heat Treatment is een specialist op het gebied van het toepassen van klantspecifieke coatings op componenten en heeft vele jaren ervaring hiermee. Het belevert zeer veeleisende industriën zoals de semiconductor industrie en de lucht- en ruimtevaart. Dit maakt Hauck Heat Treatment de competente partner die u uitgebreid kan adviseren op gebied van coating en applicatie.

Meer informatie?
Laat uw telefoonnummer achter en wij nemen contact met u op.